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污垢:主要对多晶硅影响因素 科林超声波

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家用超声波清洗机|桌面不锈钢超声波清洗机|工业用超声波清洗机|溶剂超声波清洗机|环保水基超声波清洗机|环保碳氢超声波清洗机|高压喷淋清洗机

  1. 油脂:在多晶硅生产过程中,油分子对多晶硅的危害十分严重。实际证明,整个工艺系统几ppm的油含量就可能造成多晶硅反应速度减慢,产量降低,甚至硅反应停止。因此,多晶硅设备的脱脂工艺尤为重要。
  2. 水分:水中含有大量的氯离子,氯离子对多晶硅的反应十分敏感。设备及系统干燥工艺很关键。
  3. 氯离子残留:水和其他溶液在设备表面残留的氯离子对多晶硅影响十分大。因此,在清洗后对设备进行纯水冲洗工艺十分重要。
  4. 氧化物、灰尘其他杂质:其他污垢的存在,对多晶硅的生产影响也很大。因此,在设备清洗过程中,采用酸洗工艺对其他污垢进行清洗十分必要。详细技术访问科林公司网站:
 
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